由ASML制造的光刻机用于生产计算机芯片。在这些机器中，将图案光学成像到覆盖有光敏材料（光刻胶）膜的硅片上。在单个晶片上重复此过程数十次。然后进一步处理光致抗蚀剂以在硅上产生实际的电子电路。ASML的机器处理的光学成像几乎用于所有集成电路的制造，截至2010年，ASML占光刻机全球销量的67％，Ultratech，Canon和Nikon组成。

 

浸没式光刻

截至2011年，他们的高端Twinscan NXT：1950i系统已用于以每小时200个晶圆的速度生产低至32 纳米（预期前景为22 nm）的特征，使用水浸式透镜和氟化氩激光器产生波长为193 nm的光。截至2011年，平均光刻机的成本为2700万欧元。

 

EUV光刻

ASML制造的极端紫外线光刻机可产生13.3-13.7 nm波长范围内的光。高能激光聚焦在熔融锡的微小液滴上，产生等离子体，该等离子体发射EUV光。2009年，比利时的IMEC研究中心使用原型EUV光刻机生产了世界上第一个功能齐全的22 nm CMOS SRAM存储单元。系列生产的（非原型）EUV机器于2011年发货。

 

其他

除了基于浸没式光刻和EUV光刻外，ASML还拥有覆盖刻印光刻的大量知识产权。

 

公司

ASML公司总部位于Veldhoven的，荷兰。它也是研究，开发，制造和组装的场所。ASML在16个国家/地区拥有全球客户群和60多个服务点。该公司在ASEX和NASDAQ证券交易所均以ASML上市。

 

该公司（最初名为ASM Lithography）成立于1984年，是荷兰先进半导体材料国际公司（ASMI）与飞利浦（Philips）的合资企业。如今，它是一家上市公司，飞利浦仅拥有少数股份。当公司在1988年成为独立公司时，决定不希望更改名称，而缩写ASML成为公司的正式名称。2000年，ASML收购了美国光刻设备制造商硅谷集团（SVG），以向英特尔公司提供193 nm扫描仪。

 

ASML受到周期性行业动态的影响。例如，在2008年底，ASML的销售额大幅下降，这导致管理层在全球范围内裁减了大约1000名员工（主要是合同工），并向荷兰国家失业基金申请支持以防止甚至更大的裁员。两年半后，ASML预计创纪录的收入。

 

2012年7月，英特尔宣布一项协议，向ASML投资41亿美元，以换取15％的所有权，以加速从300毫米到450毫米晶圆的过渡 以及EUV光刻的进一步发展。该交易没有对未来ASML产品的专有权，并且，自2012年7月起，ASML将向其他公司提供另外10％的股份。作为其EUV战略的一部分，ASML 于2012年10月宣布收购DUV和EUV光源制造商Cymer。2013年11月，ASML以芯片制造商需求时机不确定为由暂停了450毫米光刻设备的开发。2016年6月，ASML宣布了他们计划以约31亿美元收购台湾的Hermes Microvision Inc.的计划，以增加用于制造更小，更先进的半导体的技术。


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